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產(chǎn)品名稱：
二氧化硅消光粉高速膠體磨
產(chǎn)品型號： GM2000更新時間： 2025-08-19描述：二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
產(chǎn)品介紹
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 日用化工 | 生產(chǎn)能力 | 0-1000kg/h |
|---|---|---|---|
| 進料口直徑 | 25寸 | 出料口直徑 | 15寸 |
| 電機功率 | 4KW | 外形尺寸 | 450*350*750mm |
| 重量 | 50kg |
二氧化硅消光粉高速膠體磨
光用二氧化硅膠體磨，二氧化硅消光粉膠體磨，消光粉濕法膠體磨，微納米二氧化硅德國膠體磨，粒度均勻超微消光粉膠體磨，管線式高速膠體磨，化工用消光粉膠體磨，立式分體消光粉膠體磨
二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀，廣泛應(yīng)用于涂料工業(yè)。通過對其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制，消光粉能夠為不同的涂料和印刷油墨提供出色的啞光效果。消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感，平均粒徑小且集中。
在傳統(tǒng)膠體磨基礎(chǔ)上改進，不僅使轉(zhuǎn)速由原來的3000轉(zhuǎn)提升到了14000轉(zhuǎn)，甚至是21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速，細碎效果更好，作用效率更快，同時在結(jié)構(gòu)是除了原本有的細碎研磨功能以外，更增設(shè)了高速離心分散功能，使物料在細碎過后能夠更加穩(wěn)定的分散，不分層，不沉淀。 改進型膠體磨依靠定轉(zhuǎn)子間間隙(間隙可調(diào))使物料在通過研磨區(qū)域使受到強大的機械力、液力剪切、高頻振動等多重力的物理作用，被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎，隨后進過第二級高速剪切分散盤再一次剪切細化分散、勻化，達到物料超細粉碎和分散勻化的效果。
- 耐有機溶劑、耐腐蝕； 2、材質(zhì)為316L不銹鋼；
3、設(shè)備定轉(zhuǎn)子(研磨分散工作腔體)間間隙可調(diào)，粒度可控；
4、設(shè)備整體機身夾套設(shè)計，高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生的熱量可以通過外接冷卻設(shè)備進行控溫；
5、主軸與電機分體設(shè)計，用戶可根據(jù)需要選擇適當?shù)霓D(zhuǎn)速；
6、設(shè)備為變頻調(diào)速，可通過變頻控制柜合理準確的調(diào)節(jié)設(shè)備轉(zhuǎn)速；
7、可靈活設(shè)計生產(chǎn)過程中的特殊需求(設(shè)備表面光潔度、真空、防爆、設(shè)備材質(zhì))；
8、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗，無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù)，程度降低了風(fēng)險
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
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以下為型號表供參考：
| 型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
| GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
| GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
| GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
| GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
| GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
| GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化硅消光粉高速膠體磨
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